超光滑光学表面（优于1nm）在光刻、强激光和激光探测应用上有非常重要的意义。超光滑表面加工技术从某种意义上讲是一种“超级”抛光技术。抛光是超光滑表面加工的关键环节。
　　海泰新光一直致力于各种超光滑加工技术的研究，并取得了较好的成绩，目前已能实现粗糙度低至0.3nm的超光滑表面批量生产技术。

　　常见超光滑抛光技术：
　　√ 浴法抛光（Bowel-Feed Polishing）
　　√ 聚四氟乙烯抛光（Teflon）
　　√ 浮法抛光（Float Polishing）
　　√ 磁流变抛光（MRF）
　　√ 离子束抛光（IBF）

　　浴法抛光（Bowel-Feed Polishing）
　　浴法抛光是把光学工件沉入抛光液，通过悬浮的抛光磨料研磨工件表面，从而获得超光滑表面。选用适配的磨料、保持抛光盘与工件面形吻合等是获得超光滑表面的重要因素。
　　下面是几种典型的玻璃材料获得的抛光结果：
　　F4：粗糙度0.8nm                           BK-7：粗糙度0.4nm
　　熔石英：粗糙度0.3nm                     Zerodur M：粗糙度0.25nm
　　聚四氟乙烯（Teflon）抛光
　　聚四氟乙烯抛光盘具有抗老化、耐磨损、可长时间保持面形等优点，既可用于传统抛光又可用于浴法抛光。其关键在于抛光盘的制作。
　　下面是几种典型的玻璃材料获得的抛光结果：
　　F4：粗糙度0.4nm                                         BK-7光学玻璃：粗糙度0.1nm
　　Homosil 熔石英：粗糙度0.3nm                     Zerodur M：粗糙度0.2nm

　　浮法抛光（Float Polishing）
　　浮法抛光是以锡盘为抛光盘，采用浴式抛光方式的加工方法。它是一种非接触式抛光方法，机床主轴转动精度要求很高且转速较快，一般为60~200rpm，是目前所有超光滑表面加工技术中加工工件表面粗糙度最小的方法。

　　磁流变抛光（MRF）
　　磁流变抛光是电磁理论、流体力学、分析化学等应用于光学制造而形成的一项综合技术，其实质是一种计算机控制小磨头抛光技术，只是这里的磨头不是传统意义上的磨头，而是由磁流变抛光液在磁场作用下形成的“柔性”磨头，其形状和硬度可以由磁场实时控制。

　　离子束抛光（IBF）
　　离子束抛光技术是利用具有一定能量的惰性气体离子束流轰击材料表面，通过离子与工件表面的原子碰撞，传递动能和能量，使得一部分原子被剥离工件表面，形成对工件表面材料的去除。离子束抛光一般用来对工件表面进行精确的面形修正，需要将工件预抛光到一定精度，然后进行离子束抛光。