光学镀膜技术
- 发布时间：2020-09-22 14:51
【概要描述】 海泰新光拥有电子束蒸发（E-Beam）、离子束辅助沉积（IAD）、磁控溅射（Sputtering）和离子束溅射（IBS）等镀膜技术，能够针对产品的实际应用需求，为客户制订最经济有效的镀膜方案。
光学镀膜技术
【概要描述】 海泰新光拥有电子束蒸发（E-Beam）、离子束辅助沉积（IAD）、磁控溅射（Sputtering）和离子束溅射（IBS）等镀膜技术，能够针对产品的实际应用需求，为客户制订最经济有效的镀膜方案。
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海泰新光拥有电子束蒸发（E-Beam）、离子束辅助沉积（IAD）、磁控溅射（Sputtering）和离子束溅射（IBS）等镀膜技术，能够针对产品的实际应用需求，为客户制订最经济有效的镀膜方案。
这四种镀膜技术各有特点，下表列举了这些技术对各类指标的影响：
|
指标 |
电子束蒸发 |
离子束辅助沉积 |
磁控溅射 |
离子束溅射 |
|
沉积速率 |
约10 Å/sec |
约10 Å/sec |
约5 Å/sec |
约3 Å/sec |
|
每炉镀制面积 |
1256~4400cm2 |
1256~4400cm2 |
> 4400cm2 |
650~1250cm2 |
|
抗激光损伤阈值 |
约5 to 30 J/cm2, 20ns |
约5 to 30 J/cm2, 20ns |
约10 J/cm2, 20ns |
>40 J/cm2, 20ns |
|
吸收 |
>100ppm |
>50~100ppm |
<50ppm |
<2ppm |
|
最大膜层数量 |
约40 |
约60 |
约100 |
约200 |
|
表面粗糙度 |
<10Å RMS |
<8Å RMS |
<5Å RMS |
<1Å RMS |
|
致密性 |
多孔 |
紧密 |
致密 |
非常致密 |
|
牢固度/抗磨损 |
低 |
好 |
非常好 |
超好 |
|
温度漂移 |
较大 |
较小 |
很小 |
几乎无 |
|
内应力 |
<20MPa |
<50MPa |
<100MPa |
<100MPa |
* 以上数据仅为行业平均数据，并不代表任何特定厂商或特定设备，可能存在例外。
